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次世代半導体として応用が期待される窒化ガリウムについて、実験で作製する際にステップといった原子層の段差が発生しますが、その原因が明らかにされていません。私はコンピューターで計算シミュレーションを行い、ステップの安定性についてナノレベルで理論的に評価し、その原因の解明を目指しています。
あなたが責任を持って最後............
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